疑難解答

•是否還需要往H1細胞專(zhuān)用培養基中補充或添加成分？

不需要。H1細胞培養基中各個(gè)成分的質(zhì)量和濃度都經(jīng)過(guò)了優(yōu)化實(shí)驗，支持人ESC/iPSC的長(cháng)期培養，無(wú)需再自行添加。

•培養基中有沉淀狀物質(zhì)是否是質(zhì)量問(wèn)題？

添加劑在解凍過(guò)程中，若有少量沉淀析出，屬于正?，F象，不影響使用，請充分混勻后與基礎培養基混合。但添加劑不能在37℃解凍，否則會(huì )析出大量沉淀，影響培養基的效價(jià)。如果培養基中出現大量沉淀，請不要使用。

•是否能在37 ℃反復水浴H1細胞專(zhuān)用培養基？

不能。頻繁地在4℃和37℃之間轉換會(huì )導致H1細胞專(zhuān)用培養基中含有的因子失活，H1細胞專(zhuān)用培養基在使用前平衡至室溫即可。

• H1細胞在傳代后不貼壁怎么解決？

造成H1傳代后不貼壁的最可能的原因：

① 細胞消化時(shí)間不合適；②消化后吹打次數不合適，使得完成傳代后細胞集落過(guò)大或過(guò)小。

• H1分化怎么處理？

① 細胞在剛復蘇或傳代時(shí)，小的細胞團不呈現標準的克隆形態(tài)，培養幾天或傳代后可恢復。②如果H1分化的表現為干細胞克隆形態(tài)良好，克隆周邊出現散在的分化細胞，可通過(guò)高比例傳代（≥1:10），使得分化細胞的密度減少，低密度的分化細胞可被H1培養體系篩選去除，如未全去除，可用細胞刮或巴斯德管刮除。

② 如果H1分化的表現為克隆內部松散，邊緣不平滑，在分化比例小或分化不嚴重的情況下，可通過(guò)連續傳代2 ~ 3次恢復，如果分化嚴重，建議棄除。

• 細胞復蘇率低是什么原因？

細胞復蘇需使用H1細胞復蘇培養基，可大大提高細胞的復蘇效率。復蘇過(guò)程中，轉移細胞、吹打混勻和重懸細胞時(shí)，吹打力度要輕柔，并盡量減少吹打次數，細胞接種后，即刻在顯微鏡下觀(guān)察細胞團塊的大小，4 ~ 10個(gè)細胞的團塊為最佳。如果吹打力度過(guò)大或次數過(guò)多，導致細胞分散成單細胞，細胞復蘇率將偏低。

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